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红外光谱研究表明：气相二氧化硅表面含有大量的羟基极性基团，羟基的主要类型有：(1)相邻羟基：对极性物质具有吸附作用，由于相距较近，一般以氢键形式存在。（2）隔离羟基：孤立的、未受干扰的自由羟基。（3）硅氧基：主要存在于脱水白炭黑表层，它不易在升温加热时脱除。
气相法白炭黑分子的这些特殊结构，使它具有优良的增稠性、分散性、触变性及消光性等。
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